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CMP过滤

折叠滤芯
· CMP,即Chemical Mechanical Polishing,化学机械抛光—是一个化学腐蚀和机械摩擦的结合。CMP技术所采用的设备及消耗品包括:抛光机、抛光浆料、抛光垫、后CMP清
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产品详情

·  CMP,即Chemical Mechanical Polishing,化学机械抛光—是一个化学腐蚀和机械摩擦的结合。CMP技术所采用的设备及消耗品包括:抛光机、抛光浆料、抛光垫、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等。抛光机、抛光浆料和抛光垫是CMP工艺的3大关键要素,其性能和相互匹配决定CMP能达到的表面平整水平。其工艺过程中抛光浆料颗粒控制在0.5μm以内,本公司提供的系列过滤器及折叠滤芯可提供您有效的过滤解决方案。
·  主要特点
·  非对称膜、高纳污量
高通量、高泡点、高除菌
高亲水性、易于水润湿测试
绝对孔径确保有效过滤
每支滤芯通过完整性检测
广泛的化学相容性
材料结构 操作条件 绝对过滤精度(um)
滤材: 进口非对称聚醚砜膜
内芯: 聚丙烯
外罩: 聚丙烯
端盖: 聚丙烯
垫片/O型圈: 硅橡胶、三元乙丙、氟橡胶、包四氟
密封技术: 热熔焊接
工作温度:≤80℃
可耐最大压差:4 bar (21℃)/2.4bar (80℃)
灭菌方法:121℃/30min蒸汽灭菌
0.05、0.10、0.22、0.45、0.65、0.80、1.20
有效过滤面积
≥0.65 m2/10〞
生物安全性 滤芯尺寸 完整性测试
内毒素:≤0.25EU/ml
溶出物:≤30mg/10〞
外径: 68mm
长度: 5〞、10 〞、20 〞、30〞、40〞
起泡点测试(纯水)
0.10um≥4.0bar
0.22um≥3.4bar
0.45um≥2.3bar
应用领域    
电子行业:超纯水制备终端过滤、半导体湿设备终端过滤、水性油墨终端过滤、电子试剂终端过滤。
制药行业:注射用水、大输液(LVP)、小针剂(SVP)、冻干粉针、生物制品、眼药水、抗生素等除菌过滤。
食品行业:纯生啤酒、葡萄酒、纯水、矿泉水等除菌过滤。